如何選擇真空鍍膜機(jī)

時間：2020-01-05作者：東莞愛加真空科技有限公司瀏覽：1026

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  詞條說明

• 電子束蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜區(qū)別？

  1.兩種鍍膜原理不同： 電子束蒸發(fā)鍍膜：利用高能電子束轟擊靶材，使材料表面產(chǎn)生很高的溫度，由固態(tài)直接升華到氣態(tài)，沉積到工件表面所形成的薄膜，主要運用在光學(xué)方面(如：眼鏡片的增透膜，CCD鏡頭，光通訊方面等等) 磁控濺射鍍膜：高能離子轟擊靶材，使靶材表面原子飛逸出來的過程稱濺射，那么采用磁場控制后，濺射出來的原子或二次電子以輪擺線的形式被束縛在靶材表面，使得輝光維持而進(jìn)行濺射，主要運用在裝飾方面(

• 真空鍍膜機(jī)真空計知識

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• Polycold 水汽捕集泵的工作原理

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