詳解磁控濺射技術

時間：2025-09-02作者：那諾-馬斯特中國有限公司瀏覽：636

那諾-馬斯特中國有限公司專注于磁控濺射系統,刻蝕系統,清洗去膠系統等

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  詞條說明

• 詳解磁控濺射技術

  一、磁控濺射的工作原理：磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優點。磁控濺射的工作原理是：在高真空的條件下充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使氬氣發生電離（在高壓作用下Ar

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