靶材在真空鍍膜中的應用

時間：2019-12-17作者：醴陵市利吉升新材料有限公司瀏覽：716

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• 詞條

  詞條說明

• 工程服務

  售前服務：專家級設計團隊為您解決項目建設所需的鍍膜材料方案設計和咨詢工作，幫您節約投資和降低能耗；過程服務：您交付的任務，我們的專業管理團隊按照ISO9001的質量管理體系，做好每一個細節;售后服務：售后團隊技術精湛，經驗豐富。

• 導體靶材行業市場、產品種類及技術壁壘分析

  1、 半導體濺射靶材行業市場空間廣根據統計，2015 年全球半導體材料銷售額為435 億美元，其中晶圓制造材料銷售額為242 億美元，封裝材料為193 億美元。在晶圓制造材料中，濺射靶材約占芯片制造材料市場的2.6%。在封裝測試材料中，濺射靶材約占封裝測試材料市場的2.7%。從2011-2015年，世界半導體用靶極濺射材料市場從10.1億美元，增長至11.4億美元，復合增長率為3.1%。2016年

• 噴涂鉻管靶

  噴涂鉻管靶成型工藝：熱等靜壓、噴涂用途：工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜常規尺寸：ID125xOD145~155xL?（mm）

• 淺談半導體靶材

  靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱