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掃描探針顯微鏡是目**種用途廣泛的表面分析儀器,它不僅廣泛應用于物理、化學、生物、醫學等基礎研究領域,還在微納制造和微電子等的應用研究領域中發揮著越來越重要的作用。然而,目前商業化的掃描探針顯微鏡主要為單一探針的工作模式,其功能相對單一,難以實現一些較為復雜的實驗及檢測功能。? ? 例如,在特殊環境下(如真空或輻射環境)的微觀磨損實驗中,若采用單一探針模式,在完成磨損實驗后,需
磁控濺射技術原理及應用簡介一、磁控濺射原理磁控濺射是一種常用的物相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優點。傳統的濺射技術的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產生漂移,因而導致傳濺射效率低,電
KT-Z1604T探針臺主要應用于傳感器,半導體,光電,集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發,旨在確保質量及可靠性,并縮減研發時間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺的承載臺為60x60不銹鋼臺面,臺面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設計有進氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動,三個方向均可在真空環境下精密移位調節,其中X
?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機
公司名: 鄭州科探儀器設備有限公司
聯系人: 裴先生
電 話:
手 機: 15136134901
微 信: 15136134901
地 址: 河南鄭州中原區鄭州**產業開發區西三環路289號6幢11單元3層73號
郵 編:
網 址: zzketan.b2b168.com
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