PVD涂層對工件表面的要求

時間：2022-05-14作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：259

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  詞條說明

• 真空鍍膜技術及設備

  真空蒸發鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、**的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝潢裝飾，燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女士鞋后跟等領域。磁控濺射鍍膜設備及技術可以再金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼、鎳、鉬、硅、鈦鋁及金屬反應物（氧化物、氮化物、炭化物）、

• 真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜，實際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積，包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經有了高質量的光學薄膜沉積案例，開發了多種光學膜層材料。這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟

• 磁控濺射鍍膜設備的優點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術中，磁控濺射鍍膜技術屬于比較常見的一種鍍膜技術。今天，廣東真空鍍膜設備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術的優點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷?。?2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制

• 多弧離子真空鍍膜技術特點

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者**結合起來， 不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優點是薄膜 附著力 強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點是我們可以通過產生由高度電離的蒸發物質文化組成的等離子體，其中離子之間