KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：64

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜

  合金化是提高過(guò)渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室在對(duì)硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

• 氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測(cè)

  氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測(cè)某客戶生產(chǎn)汽車(chē)過(guò)濾網(wǎng), 因高溫真空燒結(jié)爐氣密性不佳, 導(dǎo)致生產(chǎn)出的過(guò)濾網(wǎng)材料出現(xiàn)氧化質(zhì)量問(wèn)題, 經(jīng)過(guò)上海伯東推薦, 選用氦質(zhì)譜檢漏儀?ASM 340W 對(duì)真空燒結(jié)爐進(jìn)行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經(jīng)過(guò)檢漏后的真空爐, 生產(chǎn)出的過(guò)濾網(wǎng)材料無(wú)氧化, 達(dá)到客戶工藝要求.高溫真空燒結(jié)爐氦質(zhì)譜檢漏法:金屬 (粉末)

• 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)

  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺(tái)密封性泄露檢測(cè)上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺(tái), 實(shí)現(xiàn)多工位同時(shí)抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個(gè)組件, 均需要進(jìn)行密封性泄露測(cè)試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過(guò)上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國(guó) Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無(wú)油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?

• 美國(guó) HVA 高真空閥門(mén)簡(jiǎn)介

  美國(guó)?HVA 真空閥門(mén)中國(guó)總代理上海伯東是美國(guó)?HVA 高真空和高真空閥門(mén)中國(guó)總代理!?HVA?是美國(guó)大的真空閥門(mén)制造商, 在美國(guó)有過(guò)四十年的歷史, 擁有6萬(wàn)平方英尺的全自動(dòng)加工工廠,?HVA?提供高質(zhì)量, 準(zhǔn)確, 客制化的真空閥門(mén). 無(wú)論是生產(chǎn)線升級(jí), 還是新設(shè)備制造,?HVA?都能提供經(jīng)濟(jì)有效的閥門(mén)解決方案,