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渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng)?PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COM
??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,?實現(xiàn)可見光區(qū)(400nm-630nm)高透,?近紅外(700nm-1100nm)截止的光學濾光片,?主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內(nèi)置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數(shù)碼成像領域,?用于紅外光線對?CCD/CM
上海伯東燃料電池儲氫系統(tǒng)氦質(zhì)譜檢漏法氫是一種易于儲存, 運輸和使用的能源載體.?在多種工業(yè)領域的脫碳,?以及在行駛距離長,?加油所需時間短的零排放出行中,?氫技術都發(fā)揮重要作用.?氫能作為一種清潔能源在燃料電池中的化學反應只產(chǎn)生水,?電和熱.?已被廣泛應用于燃料電池電動汽車?FCEV?車載儲氫系統(tǒng), 
氦質(zhì)譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現(xiàn)金剛石膜制備
氦質(zhì)譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現(xiàn)金剛石膜制備微波等離子體化學氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前**上被用于金剛石膜制備的公認方法. MPCVD 裝置將微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波經(jīng)波導傳輸系統(tǒng)進入反應器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發(fā)下, 在反應室內(nèi)產(chǎn)生輝光放電, 使反應氣體的分子離化, 產(chǎn)生等離子體, 在基板臺上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
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地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
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