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光催化的原理是利用光來激發(fā)二氧化鈦等化合物半導體,利用它們產生的電子和空穴來參加氧化-還原反應。當能量大于或等于能隙的光照射到半導體納米粒子上時,其價帶中的電子將被激發(fā)躍遷到導帶,在價帶上留下相對穩(wěn)定的空穴,從而形成電子-空穴對。 通過光照光催化劑使得光生電子空穴對進行重組,或者通過還原溶液中的物質(例如,O2),可以通過氧化物質(例如,H2O2,有機化合物)和光生電子空清除光生空穴。這些組合主要
首先,厭氧生物處理厭氧生物處理指的是在沒有分子氧的環(huán)境中,利用兼性菌的代謝功能,對化工制藥廢水中的有機污染物進行有效降解,使其分解成為二氧化碳、甲烷、水等。這種處理方式的優(yōu)點是低成本、低能耗、污泥產量小等,缺點是處理過后的水質相對較差,一般都是需要進一步處理才可以達到排放標準。在我國國內,處理化學制藥廢水的厭氧工藝主要有三種,分別是:上流式厭氧污泥床、厭氧復合床以及厭氧折流板反應器。其中對于上流式
序批式活性污泥法(SBR)也稱作間歇活性污泥法,是指在同一個反應池或反應器中,按時間順序由進水、反應、沉淀、排水和待機等多個基本工序組成的活性污泥污水處理方法。與常規(guī)活性污泥法相比,其特征在于系統(tǒng)按照間歇方式操作運行,由于每個反應池獨立運行,為了連續(xù)地處理廢水,處理系統(tǒng)往往需設置兩個或多個反應池交替運行達到處理效果,對于每一個反應池而言,其進水和出水是間歇性的;其次,系統(tǒng)中每個反應池的操作都是分階
電鍍工藝屬于傳統(tǒng)工業(yè)項目,使用范圍較為廣泛,并且具有良好的優(yōu)越性,但是因為電鍍廠分布較為分散,再加上生產工藝具有一定的特殊性,所以電鍍廢水中會存在大量的污染物質,尤其是重金屬,如果不采取有效手段加以去除,而是直接排入自然水體,將會對整個生態(tài)系統(tǒng)造成嚴重污染。 電鍍廢水處理是工業(yè)水處理中一項重要方向,一些傳統(tǒng)的處理工藝存在藥劑使用量大,運行陳本高,處理不徹底等問題。不斷優(yōu)化電鍍廢水的處理工藝,提高處
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