等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》

時間：2023-01-09

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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等離子體化學氣相沉積設備有哪些特點《臺風資訊》
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積)，另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)，它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材，使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜，內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜，溫度對基材沒什么影響，避免了
鵬城半導體參加*十五屆中國微納電子技術交流與學術研討會
*十五屆中國微納電子技術交流學術研討會時間：2022年10月28-30日地點：廈門君泰酒店??鵬城半導體技術（深圳）有限公司，由哈爾濱工業大學（深圳）與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術*與市場*的交叉點，尋求創新**與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。公司**業務是半導體材料、工藝和裝備的研發設計、生產制造。公司人才團隊知識
中國材料大會|鵬城半導體技術（深圳）有限公司
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