新品發(fā)布-ELIONIX納米壓痕儀

時(shí)間：2023-07-05作者：北京歐屹科技有限公司瀏覽：92

北京歐屹科技有限公司專(zhuān)注于應(yīng)力雙折射儀,內(nèi)應(yīng)力測(cè)量?jī)x,無(wú)掩膜光刻機(jī)等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 新品發(fā)布-ELIONIX納米壓痕儀

  可以獲得薄膜、極性表面和微小區(qū)域的硬度和彈性模量等機(jī)械性能。?由于分析載荷和位移曲線以確定特性，因此*觀察壓痕。符合ISO 14577-1/JIS Z 2255標(biāo)準(zhǔn)外部及內(nèi)部溫度控制防震機(jī)構(gòu)壓頭校正、溫度校正日常檢測(cè)提醒數(shù)據(jù)再現(xiàn)性 ?該機(jī)制可抑制振動(dòng)和溫度變化等外部干擾的影響，提高數(shù)據(jù)的再現(xiàn)性 ?即使在連續(xù)測(cè)量中也能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的高負(fù)荷單元和低負(fù)載單元的更換方便 ?通過(guò)更換設(shè)備進(jìn)行設(shè)備校準(zhǔn)

• PHL應(yīng)力雙折射儀PA-300-MT

  PA-300-MT 簡(jiǎn)介： PA系列是日本Photonic lattice公司傾力打造的雙折射/應(yīng)力測(cè)量?jī)x，PA系列測(cè)量雙折射測(cè)量范圍達(dá)0-130nm，可以測(cè)量的樣品范圍從幾個(gè)毫米到近500毫米。PA系列雙折射測(cè)量?jī)x以其**技術(shù)的光子晶體偏光陣列片，*有的雙折射算法設(shè)計(jì)制造，得到每片樣品僅需幾秒鐘的測(cè)量能力，使其成為業(yè)內(nèi)，特別是工業(yè)界雙折射測(cè)量/應(yīng)力測(cè)量的**選擇。 PA-300-MT主要特點(diǎn)：

• PHL應(yīng)力雙折射測(cè)量?jī)xWPA-200-MT

  WPA-200-XL簡(jiǎn)介： WPA-200-XL系列是Photonic lattic公司以其良好世界的光子晶體制造技術(shù)開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品，*特的測(cè)量技術(shù)，高速而又精確的測(cè)量能力使其成為**的光學(xué)測(cè)量產(chǎn)品。 該產(chǎn)品在測(cè)量過(guò)程中可以對(duì)視野范圍內(nèi)樣品一次測(cè)量，全面掌握應(yīng)力分布。可測(cè)數(shù)千nm高相位差分布的萬(wàn)用機(jī)器，較適合用來(lái)測(cè)量光學(xué)薄膜或透明樹(shù)脂,量化測(cè)量結(jié)果，二維圖表可以更直觀的讀取數(shù)據(jù)。 WPA-200

• 新品發(fā)布-VR鏡頭專(zhuān)用應(yīng)力雙折射測(cè)量設(shè)備

  PHL公司較新推出一款**于VR鏡片的的評(píng)估設(shè)備WPA-VR ，適應(yīng)于研發(fā)和在線式檢測(cè)。1， 斯托克斯參數(shù)S3的面分布測(cè)量。Pancake鏡片薄型化的技術(shù)，在于鏡頭內(nèi)含有控制整體偏光的偏光片與QWP(1/4玻片)結(jié)構(gòu)。藉由表示綜合偏光控制性能的斯托克斯參數(shù)S3的整面分布信息可以評(píng)估模材貼合時(shí)的皺褶、氣泡等缺陷狀況2， RGB三原色測(cè)量，利用三原色量測(cè)，可了解各色狀態(tài)下QWP的相位差及S;差異狀況三