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半導體晶圓切割液配方技術概述晶圓是硅半導體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓,是制造I C的基本原料。硅晶圓是指硅元素加以純化(99.999%),接著是將這些純硅制成長硅晶棒,成為制造積體電路的石英半導體的材料,經過照相制版、研磨、拋光、切片等程序,將多晶硅融解拉出單晶硅晶棒,然后切割成一片一片薄薄的晶圓。在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結構,而成為有特定電性功能的集成電路產
濾光片是用來選取所需輻射波段的光學器件,是一種不僅能衰減光強度,還可以改變光譜成分或限定振動面的光學零件。濾光片的一個共性,就是沒有任何濾光片能讓目標的成像變得較明亮,因為所有的濾光片都會吸收某些波長,從而使物體變得較暗。濾光片原理濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的,紅色濾光片只能讓紅光通過,以此類推。玻璃片的透射率原本與空氣差不多,所有色光都可以通過,所以濾光片是透明的,但是染了染料后,分
玻璃的激光切割原理1.玻璃對激光的吸收激光波長大于5 um時有較高的吸收率CO 2激光的波長為10.6 um,非常適合切割玻璃當今大多數的激光切割設備的功率均為100~500 W的封離型CO 2激光器.波長在1 um左右的半導體激光器和N d:YA G激光器也可用于激光切割,但切割原理不同激光切割玻璃技術是應力切割,切割金屬是熔融切割2.CO 2激光器的玻璃切割工藝玻璃切割大多采用封離型CO 2激
晶圓切割有哪幾種方法現階段,硬脆材料切割技術主要有外圓切割、內圓切割和線銘切割。外圓切割組然操作簡單,但據片剛性差,切割全過程中鋸片易方向跑偏.造成 被切割工們的平面度差:而內圓切割只有進行直線切割.沒法進行斜面切割.線鋸切割技術具備割縫窄、高效率、切成片*、可進行曲線圖切別等優點成為口前普遍選用的切割技術。內圓切割時晶片表層損害層大,給CMP產生挺大黔削拋光工作中較:刃口寬.材料損害大.品
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯系人: 孫經理
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