掩膜版:光刻工藝“底片”，國產替代步伐加快

時間：2022-03-02

作者：北京華諾恒宇光能科技有限公司

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【掩膜版】“掩膜”是什么？
光掩膜(mask)資料:在半導體制造的整個流程中，其中一部分就是從版圖到wafer制造中間的一個過程，即光掩膜或稱光罩(mask)制造。這一部分是流程銜接的關鍵部分，是流程中造價較高的一部分，也是限制較小線寬的瓶頸之一。光掩膜除了應用于芯片制造外，還廣泛的應用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料。基板通
掩膜版:光刻工藝“底片”，國產替代步伐加快
掩膜版（Photo ** sk）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉移工具或母版，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業批量生產，是下 ** 工業生產過程連接的關鍵部分是決定下游產品精度和質量的因素之一。掩膜版的功能類似于傳統相機的底片。其工作原理如下：根據客戶需要的圖形，掩膜制造商通過光刻制工藝在掩膜基板上刻制微米級和納米級的精
北京激光切割
北京華諾恒宇光能科技有限公司是一家*提供激光加工激光代加工的企業。本公司于2002年創建，位于北京市豐臺區南三環西路88號春嵐大廈院內。隨著市場的發展，為了滿足顧客的需求，我公司特組建激光切割部、激光打孔部、激光焊接部、激光打標部，為你提供“一條龍”的加工服務。激光切割部有多臺激光切割機，不僅可以提供大功率的切割還可以提供小功率的精密激光切割；可切割的材質包括金屬和非金屬，激光切割速度快，切縫光
空壓機閥片早期損壞、機身振動是何原因
空壓機閥片早期損壞原因分析和如何排除：1.閥片制造材料及熱處理或加工不符要求；2.密封面損壞，升程大；3.吸入夾雜物；4.閥間混入冷凝水或多量的潤滑油；5.閥導向面磨損引起閥片異常工作。空壓機閥片早期損壞排除方法：1.調換符合要求的閥片；2.研磨閥片、閥座或換新的；3.清洗吸氣管道；4、排除冷凝水及防止過多的潤滑油進入氣閥。5、換閥座。空壓機機身振動是何原因和如何排除：1、軸瓦、十字頭、滑板間隙過