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韶關高純鉻靶:打造薄膜材料的產品隨著科技的發展和應用領域的不斷擴大,高純鉻靶作為PVD技術的一部分,在半導體制造、光學鍍膜以及磁盤制造等領域發揮著重要作用。作為廣受歡迎的金屬材料之一,高純鉻靶以其優異的物理性能和化學性質備受行業青睞。一、高純鉻靶的基本原理及應用領域高純鉻靶主要是利用PVD技術中的濺射過程,通過輝光放電在真空環境中撞擊靶表面的氬離子,使靶材中的鉻物質被加速撞擊并飛出,終在基板上形成
氧化鋁靶材:精密鍍膜背后的關鍵角色氧化鋁靶材是一種用于物理氣相沉積(PVD)工藝的高純度陶瓷材料。這種材料在半導體、光學鍍膜和顯示面板制造領域扮演著不可替代的角色。其核心價值在于能夠通過濺射工藝在基材表面形成致密、均勻的氧化鋁薄膜。高純度是氧化鋁靶材的首要特征。通常要求純度達到99.99%以上,雜質含量控制在ppm級別。這種極高的純度保證了最終鍍膜的質量和性能。在半導體器件中,即使是微量的雜質也
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
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