深圳鉭靶材報(bào)價(jià)

時(shí)間：2024-07-27作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：383

東莞市鼎偉新材料有限公司專注于鈦鋁靶,鉻鋁靶,鎳鉻合金靶,鎢鈦合金靶材,鎳釩合金靶,高純鉻靶等, 歡迎致電 18681059472

• 詞條

  詞條說明

• 氮化硅靶材

  氮化硅靶材：現(xiàn)代科技中的隱形英雄 氮化硅靶材在高科技制造領(lǐng)域扮演著關(guān)鍵角色。這種材料由氮和硅元素組成，具備獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì)，使其在半導(dǎo)體、光伏、顯示面板等行業(yè)中不可或缺。 氮化硅靶材的制備工藝直接影響其性能。通常采用熱壓燒結(jié)或化學(xué)氣相沉積（CVD）方法，確保材料的高純度和致密性。熱壓燒結(jié)通過高溫高壓使粉末顆粒緊密結(jié)合，而CVD則通過氣體反應(yīng)在基板上沉積氮化硅薄膜。兩種方法各有優(yōu)劣，熱壓燒結(jié)成

• 氧化鎂靶材

  氧化鎂靶材：電子工業(yè)中的隱形功臣 在真空鍍膜領(lǐng)域，氧化鎂靶材扮演著關(guān)鍵角色。這種白色陶瓷材料具有獨(dú)特的晶體結(jié)構(gòu)，當(dāng)它在真空環(huán)境下被高能粒子轟擊時(shí)，會(huì)以分子形式均勻沉積在基板上，形成納米級薄膜。這種特性使其成為制造光學(xué)涂層、半導(dǎo)體元件和顯示面板的核心材料。 氧化鎂靶材最顯著的優(yōu)勢在于其優(yōu)異的介電性能。它的介電常數(shù)達(dá)到9.8，擊穿電壓超過10kV/mm，這種絕緣特性完美契合了薄膜晶體管的生產(chǎn)需求。在

• 銻化鋅靶材

  銻化鋅靶材：半導(dǎo)體與光電領(lǐng)域的關(guān)鍵材料 銻化鋅靶材是一種重要的功能材料，在半導(dǎo)體、光電和太陽能電池等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。它的獨(dú)特性能使其成為薄膜沉積工藝中的理想選擇，尤其在制備高效率光電器件時(shí)表現(xiàn)出色。 銻化鋅（ZnSb）是一種典型的半導(dǎo)體化合物，具有優(yōu)良的熱電性能和光電轉(zhuǎn)換效率。作為靶材，它能夠在磁控濺射、脈沖激光沉積等工藝中形成高質(zhì)量的薄膜。這種薄膜在紅外探測、光伏電池和透明導(dǎo)電薄膜等領(lǐng)域發(fā)揮

• 氧化鋯靶材

  氧化鋯靶材：高性能材料的核心秘密 氧化鋯靶材是薄膜沉積技術(shù)中的關(guān)鍵材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜、太陽能電池等領(lǐng)域。它的高熔點(diǎn)、優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性以及良好的機(jī)械強(qiáng)度，使其成為高端鍍膜工藝的首選。 高熔點(diǎn)與穩(wěn)定性 氧化鋯的熔點(diǎn)高達(dá)2700℃，遠(yuǎn)高于普通金屬氧化物，這使得它在高溫環(huán)境下仍能保持穩(wěn)定。在濺射鍍膜過程中，靶材需要承受高能粒子的轟擊，而氧化鋯的耐高溫特性確保了鍍膜過程的穩(wěn)定性和均勻性。此外，