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金靶材市場價格


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    氧化鎵靶材:半導體制造的新寵氧化鎵靶材正在成為半導體行業的新焦點,這種高純度材料在薄膜沉積工藝中展現出獨特優勢。作為第四代半導體材料的關鍵組成部分,氧化鎵靶材的物理化學特性決定了其在功率電子器件領域的應用前景。氧化鎵靶材最顯著的特點是超寬禁帶寬度,達到4.8-4.9eV,遠高于硅的1.1eV和碳化硅的3.3eV。這一特性使其能夠承受更高電壓和溫度,特別適合制造高壓、大功率電子器件。在射頻器件和功

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