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鋁錳合金靶材:現代鍍膜工藝的關鍵材料 鋁錳合金靶材是一種廣泛應用于物理氣相沉積(PVD)技術的重要材料,主要用于電子、光學和裝飾鍍膜領域。其獨特的性能使其在薄膜制備過程中占據重要地位。 鋁錳合金靶材的特性 鋁錳合金靶材由鋁和錳按特定比例組成,通常錳含量在1%至10%之間。這種合金具有較高的強度和耐腐蝕性,同時保持了良好的導電性和導熱性。在濺射鍍膜過程中,鋁錳合金靶材能夠形成均勻、致密的薄膜,適用
深圳陶瓷靶材廠是一家從事高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型工貿有限公司。我們擁有一支的技術團隊和的實驗室設備,致力于研發和生產各類陶瓷靶材,以滿足不同行業的需求。陶瓷靶材作為一種特殊材料,在薄膜制備技術中發揮著重要作用。這些高純度陶瓷材料具有高熔點、良好的化學穩定性和特殊的光學特性,可以提供多的功能性和性能優勢。在半導體行業,陶瓷靶材用于制造薄膜晶體管,直接影響晶體管的性能和穩定性;在光電
湛江鑭靶材批發價格 作為一家專業生產高純金屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司,我們的產品一直以高質量和性價比著稱。在這篇文章中,我們將**介紹我們公司的明星產品之一——鑭靶材。鑭靶材作為一種多功能且重要的材料,在各個領域都有著廣泛的應用。 鑭靶材是由鑭元素構成的一種固體靶材,具有高純度、高熔點、柔軟且具延展性的特性。其熔點為927°C,密度為7.3克/立方厘米,是一種銀
氮化硅靶材:現代科技中的隱形英雄 氮化硅靶材在高科技制造領域扮演著關鍵角色。這種材料由氮和硅元素組成,具備獨特的物理和化學性質,使其在半導體、光伏、顯示面板等行業中不可或缺。 氮化硅靶材的制備工藝直接影響其性能。通常采用熱壓燒結或化學氣相沉積(CVD)方法,確保材料的高純度和致密性。熱壓燒結通過高溫高壓使粉末顆粒緊密結合,而CVD則通過氣體反應在基板上沉積氮化硅薄膜。兩種方法各有優劣,熱壓燒結成
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