等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD)

時間：2014-10-22作者：青島福潤德微電子設備有限公司瀏覽：114

青島福潤德微電子設備有限公司專注于鏈式爐排,全自動擴散爐,小型真空爐,加熱爐體,石棉圈,小型馬弗爐等

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  詞條說明

• 擴散爐

  擴散爐由控制系統、進出舟系統、爐體加熱系統和氣體控制系統等組成。 控制系統 控制部分包括：溫控器、功率部件、**溫保護部件、系統控制。 系統控制部分有四個獨立的計算機控制單元，分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分，是擴散/氧化系統的控制中心。 擴散爐網絡控制 輔助控制系統，包括推舟控制裝置、保護電路、電路轉接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風開關等。 較**的擴散爐控制系統均已較新或升級到微

• LPCVD設備

  LPCVD設備維修及應用 低壓化學氣相淀積設備使用與維護技術 LPCVD是大規模集成電路(LSI)和**大規模集成電路(VLSI)以及半導體光電器件工藝領域里的主要工藝之一。 PCVD技術可以提高淀積薄膜的質量，使膜層具有均勻性好、缺陷密度低、臺階覆蓋性好等優點，成為制備Si 3N4薄膜的主要方法。熱壁LPCVD設備使用過程中出現薄膜的淀積速率、薄膜的均勻性、片內均勻性、片間均勻性不理想等問題，提

• 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD)

  ? 等離子增強化學氣相淀積系統(PECVD) PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的**設備。淀積溫度范圍寬( 100～600oC可調)，特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。 產品特點： 1、膜質量高。它不同于通常使用的翻蓋式單室機（易漏大氣而

• 太陽能擴散爐

  太陽能電池擴散工藝及其設備 太陽能電池擴散工藝及其設備 ????技術方案是：一種太陽能電池擴散工藝，在太陽能電池擴散工藝中通控制抽氣排風壓力，使抽氣排風壓力這個參數保持穩定，抽氣排風壓力這個參數保持穩定，抽氣排風壓力的穩定導致辭磷在硅片中的注入濃度穩定，使加工后得到的硅片的方塊電池保持穩定，在后道的燒結中可以匹配出高效的太陽能電池。抽氣排風壓力通過在機臺排