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等離子清洗機在光電子領域的應用:等離子刻蝕,等離子沉積,原子層沉積廣泛用于光電器件制造,包括VCSEL,激光二管,微透鏡,波導和單片微波集成電路(MMIC)等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統等。等離子處理機廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和
等離子清洗機,等離子去膠機工藝原理及使用 1) 等離子清洗機,等離子去膠機反應機理: ? ?在干法等離子去膠技術中,氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機反響室中受高頻及微波能量效果,電離發生氧離子、游離態氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體,其間具有強氧化才能的游離態氧原子 (約占 10-20%)在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響: O2→O*+ O*, CxHy + O
采用等離子表面處理機處理技術對玻璃改性,有設備簡單,原材料消耗低,成本低,產品附加值高等特點,優化了玻璃鍍膜、粘合、去膜工藝,低溫等離子體表面處理機改性材料已廣泛應用于電容、電阻式手機觸摸屏等某些需要精加工的玻璃。玻璃經等離子清洗機處理后可解決了玻璃粘合困難,印刷,電鍍等難題。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處
等離子清洗機設備,在各個領域的詳細應用 等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等
公司名: 煙臺金鷹科技有限公司
聯系人: 劉曉玲
電 話: 0535 -8236617
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地 址: 山東煙臺招遠市山東招遠高新開發區招金路518號
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