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常規(guī)的CMOS結構中,電源與地之間存在寄生的PNPN即SCR結構。當SCR被觸發(fā)時,電源到地之間存在低阻通道,引起較大電流,破壞電路工作甚至燒毀電路,這就是閂鎖效應 (Latch-up)。為避免閂鎖效應,早期采用SOS (Silicon On Sapphire) 技術制作CMOS電路,即在藍寶石絕緣襯底上外延硅,之后制作器件,這就有效的避免MOS管的源、漏區(qū)和襯底之間形成PN結。但是,藍寶石價格昂
CMOS圖像傳感器制造的工藝問題CMOS圖像傳感器采用8英寸和12英寸晶圓代工廠的成熟工藝制程,用于手機、汽車、消費電子產(chǎn)品、工業(yè)和醫(yī)療系統(tǒng)、安防攝像頭。配置雙攝像頭和多攝像頭的智能手機已是司空見慣,每個攝像頭均需要集成一顆CMOS圖像傳感器將光轉換為電信號以創(chuàng)建圖像。CMOS圖像傳感器外觀示意圖智能手機搭載的CMOS圖像傳感器數(shù)量還將增加,為攝像頭賦予高分辨率和豐富的功能。例如,三星較新款5G智
中國攝像頭CMOS需求潛力旺盛CCD和CMOS在制造上的主要區(qū)別是CCD是集bai成在半導體單晶材料上du,而CMOS是集成zhi在被稱做金屬氧化物的半導體材料dao上,工作原理沒有本質的區(qū)別。CCD只有少數(shù)幾個廠商例如索尼、松下等掌握這種技術。而且CCD制造工藝較復雜,采用CCD的攝像頭價格都會相對比較貴。事實上經(jīng)過技術改造,目前CCD和CMOS的實際效果的差距已經(jīng)減小了不少。而且CMOS的制造
CMOS的制作需要經(jīng)過一系列的復雜的化學和物理操作,而做為一名集成電路版圖(ic layout)工程師,系統(tǒng)的了解這個在半導體制造技術中具有代表性的CMOS工藝流程是非常有必要的。只有熟悉了工藝流程才會了解各層次之間的關系,才會在IC Layout的繪制中考慮到版圖中各層次對流片產(chǎn)生的影響。1初始清洗將晶圓放入清洗槽中,利用化學或物理方法將在晶圓表面的塵粒或雜質去除,防止這些雜質塵粒對后續(xù)制造工藝
公司名: 深圳海木芯科技有限公司
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地 址: 廣東深圳南山區(qū)大沖一路華潤置地E座33樓B
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