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真空鍍膜技術作為一種產生特膜層的技術,在現實生產生活中有著廣泛的應用。真空鍍膜技術有三種形式:即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜。在這里主要講下磁控濺射鍍膜。磁控濺射技術在市場中應用非常的廣泛,各行各業物件膜層鍍膜,大多數都是采用磁控濺射技術,磁控濺射技術在真空行業也是非常的受歡迎和追捧。高真空磁控濺射鍍膜是屬于物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種,一般的濺
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積),另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積),它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材,使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜,內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜,溫度對基材沒什么影響,避免了
一、PVD真空鍍膜設備市場概況高真空電子束蒸鍍機-鵬城半導體2024年,**PVD真空鍍膜設備行業的總規模約為22億美元,而且預計到2024年,這一數字將會翻倍,達到47億美元。PVD真空鍍膜技術由非金屬物質以真空溫度和帶電離子碰撞技術,形成厚膜,具有聚合度高、粘著力強、透明度高及耐腐蝕性好等優點。PVD真空鍍膜設備可廣泛應用于電子、醫療、汽車、航空航天、航空航空電子等領域,以及金屬表面處理、無損
創芯未來 鵬城半導體亮相第二屆碳基半導體材料與器件產業發展論壇
半導體行業技術高、進步快,一代產品需要一代工藝,而一代工藝需要一代設備。**半導體設備市場集中度高,主要有美日荷廠商壟斷,國內自給率僅有 5%左右,國產替代空間巨大。尤其是隨著摩爾定律趨近極限,半導體行業技術進步放緩,國內廠商與****技術差距正在逐漸縮短,未來 3-5 年將是半導體設備國產替代黃金戰略機遇期。鵬城半導體技術(深圳)有限公司作為一家半導體材料、工藝和裝備的研發設計、生產制造集一體的
公司名: 鵬城半導體技術(深圳)有限公司
聯系人: 戴朝蘭
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地 址: 廣東深圳南山區留仙大道3370號南山智園崇文園區3號樓304
郵 編:
網 址: pcs2021.b2b168.com
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