真空鍍膜機適用范圍介紹

時間：2023-12-13

作者：鵬城半導體技術（深圳）有限公司

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「喜訊」熱烈祝賀鵬城半導體榮獲4項軟件著作權專利證書
近日，鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱：鵬城半導體）申請的《PVD薄膜沉積系統軟件》、《高真空濺射系統軟件》、《電子束蒸鍍薄膜沉積系統軟件》、《微米晶、納米晶金剛石薄膜CVD沉積系統軟件》4項軟件著作權**通過審批，經*人民共和國國家**考證，根據《*人民共和國計算機軟件保護條例》和《計算機軟件著作權登記辦法》的規定，鵬城半導體技術（深圳）有限公司被認定這4項軟件的法定著作權人，從頒證
第十七屆全國MOCVD學術會議與您太原相見！
2022年8月15日-18日，2022十七屆全國MOCVD學術會議選擇在中國·太原·湖濱國*際大酒店舉行。金屬**化學氣相淀積（MOCVD）技術自二十世紀六十年代提出以來，取*得了飛速進步，已經廣泛應用于制備III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半導體材料及其**結構，較*大地推動了光電子器件和微電子器件與芯片的發展及產業化，也成為半導體**晶格、**阱、**線、**點結構材料及相
鵬城半導體邀您參加第四屆全球半導體產業（重慶）博覽會
鵬城半導體技術（深圳）有限公司，由哈爾濱工業大學（深圳）、北京琨騰科技有限公司以及有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術*與市場*的交叉點，尋求創新**與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。公司**業務是半導體材料、工藝和裝備的研發設計、生產制造。公司人才團隊知識結構完整，有以哈工大教授和博士為**的高水平材料研究和工藝研究團隊；還有來自工業界的**裝
PVD技術在半導體器件中的應用
在快速發展的半導體技術領域，物相沉積（PVD）是實現薄膜沉積工藝精度和效率的關鍵工具。讓我們一起來了解PVD技術在半導體行業中的應用。物相沉積涉及在半導體襯底上沉積薄膜，利用諸如濺射或蒸發等物理過程。PVD的多功能性和可控性使其成為半導體制造中的寶貴工具，可以創建復雜和的設備。PVD在微電子學中的應用薄膜晶體管(TFTs)PVD在TFT的制造中起著關鍵作用，TFT是平板顯示器、發光二管(OLED)