采用低溫等離子設備，可獲取相對薄的高張力表層涂層

時間：2023-03-07

作者：深圳子柒科技有限公司

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采用低溫等離子設備，可獲取相對薄的高張力表層涂層
? ?目前，低溫等離子設備廣泛應用于各種生產領域。比如，材料表面處理(塑料表面處理、金屬表面處理、鋁表面處理、印刷、涂布和粘接前等離子表面處理)，其主要作用是清潔材料表層，改善表層的附著力和粘接性。等離子體技術得到了廣泛的使用，并成為了業(yè)界普遍關注的核心。采用這種創(chuàng)新的表層處理工藝，可以達到現(xiàn)代制造技術所追求的高質量、高可靠性、率、、環(huán)保的目標。? ? &n
工程產品冶金涂層氮氣等離子表面處理方法
冶金涂層方法用于各種工程產品中，以提高它們的抗蝕性，耐磨性，疲勞強度和表面硬度。涂覆的方法有二種，一種是在工件表面上附著一層物質；另一種是從工件表面向里形成一層不同物質的擴散層，該層具有可以測定的濃度梯度，而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如，目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴散層，用它來可靠地支持更硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學氣相沉
生物領域等離子處理機的應用原理分析
生物領域等離子處理機的應用原理分析，即物質的*四態(tài)，是由部分喪失電子的原子和電離產生的自由電子組成的離子氣體物質。這種電離氣體由原子、分子、原子團、離子和電子組成。其作用可以實現(xiàn)物體表面的清潔、活化、蝕刻、精整和等離子處理機表面涂層。由于低溫等離體對物體表面的處理強度小于高溫等離子體，可以保護物體表面。我們在應用中使用的大多是低溫等離子體。而且各種粒子在物體處理過程中所表現(xiàn)出的作用也各不相同。&n
?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應的影響
?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時，H2添加量對C2H6脫氫反應的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉化及C2H2、C2H4和CH4生成。產生上述結果的可能原因是：一方面氫氣因其導熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，