生物領域等離子處理機的應用原理分析

時間：2023-03-07

作者：深圳子柒科技有限公司

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plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優良的介質材料，它具有介電性能穩定，介質損耗小，耐潮性好，溫度系數好等優點，具有較其穩定的化學性和電絕緣性。因此，二氧化硅在集成電路工藝中的應用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應用的廣泛性，所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜，這就意味著要不斷研發出各種新型的薄膜沉積技術。近年來，常壓plasma等離子處理
大氣等離子清洗機設備安裝靈便簡易，可去除塑膠表層的微小積塵
?大氣等離子清洗機設備安裝靈便簡易，可與智能化生產流水線在線運用。利用等離子體內各種高能物質的活(化)影響，去除附著在物體表層的污垢。其基本原理:在氧等離子體中的氧原子自由基、刺激性氧分子、電子和紫外光線的相同影響下，油污分子結構后面被氧化變成水和CO2分子結構，并從物體表層去除。大氣直噴等離子清洗機廣泛應用于玻璃光學、手機制造、印刷、包裝等諸多行業。? ? &nbs
汽車手機配件材料脫漆、噴不上用等離子火焰處理機怎么樣
汽車手機配件材料脫漆、噴不上用等離子火焰處理機怎么樣：? ? ? ?由于大多數塑料表面張力較低，因此過去的很多設計都是采用替代材料，只要表面經等離子火焰處理機處理后，能達到噴漆或粘合等工藝標準，就**采用這種材料。近年來，成本、材料的使用性能等都日益成為產品設計中的主導因素，這促使汽車制造商開始關注更多的塑料品種。目前，PP、PC、ABS、SMC、各種彈性體
?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應的影響
?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時，H2添加量對C2H6脫氫反應的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉化及C2H2、C2H4和CH4生成。產生上述結果的可能原因是：一方面氫氣因其導熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，