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等離子處理器也屬于干洗法,與傳統的濕法清洗器相比,電漿處理器具備工藝簡單、操作簡單、可控性高、精度高等特點,能一次清理表層不會有殘留物,反觀濕法清理一次清理不干凈還會有殘留物,如果使用大量的溶劑,對環境和人體都會有害。電漿清洗器在使用流程中,有兩種清理流程:化學變化和物理反應。電漿清理性能好,清理快,去除氧化物,**物和物體表層活化效果好,而且在使用流程中不會產生對人體和環境有害的氣體,是一種真正
等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應,將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子,這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置,然后與被刻蝕的物質發生反應,形成揮發性反應物,這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備,是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度,隨著氣體的稀薄,分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長,在電場的作用下碰撞形成等離子體,這些離
SiC該材料是三代半導體材質,具有高臨界擊穿電場、高導熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導體功率器件的*方向,在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導體器件低損耗的優良性能,是**半導體功率器件的*。? ? ? ??但經傳統濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質和表面容易被氧化等缺點,使得在SiC上不容易形成優良的歐姆接觸和低界面態的MOS結
納米銅薄膜是一種新型功能材料具有表面效應、**效應等特性,其導電性能良好在化工、紡織、醫學和電子等廣泛應用。低溫等離子體處理技術是一種對環境友好的表面處理技術,可應用于不同材料的表面處理,以實現清潔、刻蝕或接枝等。? ? ? ? 紡織材料表面采用低溫等離子體技術處理工藝設計后以其為基質沉積納米銅薄膜,可作為理想的功能材料并提高紡織品的附加值。未經等離子體預處
公司名: 深圳子柒科技有限公司
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