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? ?目前,低溫等離子設備廣泛應用于各種生產領域。比如,材料表面處理(塑料表面處理、金屬表面處理、鋁表面處理、印刷、涂布和粘接前等離子表面處理),其主要作用是清潔材料表層,改善表層的附著力和粘接性。等離子體技術得到了廣泛的使用,并成為了業界普遍關注的**。采用這種創新的表層處理工藝,可以達到現代制造技術所追求的高質量、高可靠性、率、、環保的目標。? ? &n
等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應,將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子,這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置,然后與被刻蝕的物質發生反應,形成揮發性反應物,這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備,是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度,隨著氣體的稀薄,分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長,在電場的作用下碰撞形成等離子體,這些離
?PET塑料噴涂前等離子表面處理設備在數碼行業中主要為粘接、涂裝、濺鍍等工藝提供前處理。PET塑料等離子體噴涂設備處理在數碼產品中應用多的對象是手機外殼、手機按鍵、筆記本電腦外殼、筆記本鍵盤、塑膠產品等。廣泛地應用原材料有聚乙烯,聚丙烯,聚,聚酯,聚甲醛,聚四氟乙烯,,尼龍,(硅)橡膠,**玻璃,ABS等塑料的印刷,涂覆和粘接等工藝的表面預處理。? ? ?
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優良的介質材料,它具有介電性能穩定,介質損耗小,耐潮性好,溫度系數好等優點,具有較其穩定的化學性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發出各種新型的薄膜沉積技術。近年來,常壓plasma等離子處理
公司名: 深圳子柒科技有限公司
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