低溫等離子體技術處理工藝設計對織物濺射銅膜性能影響

時間：2023-03-20

作者：深圳子柒科技有限公司

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等離子體處理對金剛石發(fā)生Raman散射熒光增強的原因研究
熒光標記對生物醫(yī)學生物傳感、材料科學等方面都是非常有效的檢測手段。羅丹明、熒光素、吖啶、菁等傳統(tǒng)的**熒光染料分子易發(fā)生團聚(微米級)不易進入細胞。熒光素類標記物易與同類物種間發(fā)生能量轉移，隨著標記量增大熒光信號反而降低，導致自猝滅。? ? ? ? 金剛石既發(fā)熒光又無光致漂白現(xiàn)象，高生物相容性且、大比表面積，較易于與抗體結合形成熒光標記物進行靶向標記，被廣泛
電漿清洗機氫去除SiC表面污染物C和O
SiC該材料是三代半導體材質，具有高臨界擊穿電場、高導熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導體功率器件的*方向，在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導體器件低損耗的優(yōu)良性能，是**半導體功率器件的*。? ? ? ??但經傳統(tǒng)濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質和表面容易被氧化等缺點，使得在SiC上不容易形成優(yōu)良的歐姆接觸和低界面態(tài)的MOS結
等離子體刻蝕機清洗技術在塑料及橡膠行業(yè)中的應用
等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應，將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質發(fā)生反應，形成揮發(fā)性反應物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術的形成設備，是在密閉器皿內用進口真空泵達到相應的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長，在電場的作用下碰撞形成等離子體，這些離
工程產品冶金涂層氮氣等離子表面處理方法
冶金涂層方法用于各種工程產品中，以提高它們的抗蝕性，耐磨性，疲勞強度和表面硬度。涂覆的方法有二種，一種是在工件表面上附著一層物質；另一種是從工件表面向里形成一層不同物質的擴散層，該層具有可以測定的濃度梯度，而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如，目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴散層，用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學氣相沉