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鈷鐵硼合金靶材


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    鋁稀土合金靶材:現代科技背后的"隱形功臣"鋁稀土合金靶材正悄然改變著多個高科技領域的面貌。這種特殊材料在真空鍍膜工藝中扮演著關鍵角色,其性能直接影響著最終鍍膜產品的質量。靶材作為鍍膜源材料,在濺射過程中被高能粒子轟擊,原子從表面逸出后沉積在基板上形成薄膜。鋁稀土合金的加入,使得這一過程更加高效穩定。與傳統純鋁靶材相比,鋁稀土合金靶材展現出顯著優勢。稀土元素的加入細化了合金晶粒,使微觀結構更加均勻

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    氟化鎂靶材:光學鍍膜領域的關鍵材料氟化鎂靶材是一種在光學鍍膜領域具有重要應用價值的材料。這種靶材以高純氟化鎂為原料,通過特殊工藝制備而成,主要用于真空鍍膜設備中。其獨特的物理化學性質使其成為制造高質量光學薄膜的理想選擇。在光學性能方面,氟化鎂靶材具有優異的透光性,特別是在紫外到紅外波段都表現出良好的光學特性。這種材料折射率適中,能夠有效減少光學元件表面的反射損失。用其制備的增透膜可以顯著提高光學

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