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    中山金靶材廠是一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司。公司擁有多名中**技術人員和化實驗室,具備強大的蒸發材料開發能力。通過不懈努力,公司先后研發的金靶材系列產品廣泛應用于國內外電子和太陽能企業,成功取代了國外進口產品,得到用戶的。金靶材,也稱金屬靶材,是高速粒子轟擊的目標材料,具有廣泛的應用領域,包括光學涂層、生物醫學、電子器件和納米技術等。在光學涂層領域,金靶

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    對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。?濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例,因素主要

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    茂名鎳鉻合金靶茂名鎳鉻合金靶是一種的濺射靶材,由鎳和鉻按一定比例合成的合金構成。這種合金靶材具有出色的物理和化學性質,如高電阻率、低電阻溫度系數、較高的靈敏系數以及對溫度依賴小等特點,使其在多個領域具有廣泛的應用。在制備混合集成電路時,茂名鎳鉻合金靶的電阻薄膜被廣泛應用于制備精密電阻薄膜。這些薄膜能夠滿足電阻應變計敏感薄膜的性能要求,因此常被用于薄膜電阻應變計的制備。此外,在鍍膜行業中,茂名鎳鉻合

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