立式濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢(shì)及應(yīng)用行業(yè)

時(shí)間：2022-03-12作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：93

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 何時(shí)對(duì)零件執(zhí)行真空浸漬

  是否應(yīng)該在完成之前或之后進(jìn)行真空浸漬？粉末涂料，油漆，鉻酸鹽轉(zhuǎn)化和陽(yáng)極氧化是壓鑄零件的常用表面處理，可改善其性能或外觀。在某些壓鑄應(yīng)用中，組件還必須密封以容納加壓的流體或氣體。公司使用真空浸漬法通過(guò)密封內(nèi)部泄漏通道而不會(huì)影響鑄件的任何其他特征來(lái)滿足這些要求。一般規(guī)則是，在任何表面拋光之前都應(yīng)進(jìn)行真空浸漬。這將密封孔隙并消除可能因除氣，化學(xué)相容性或預(yù)處理滲出而導(dǎo)致的任何失效模式。以下是在涂飾后進(jìn)行浸

• 真空鍍膜設(shè)備的環(huán)境要求

  ? ? ? ? ? 由于真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。我國(guó)制減定的各類真空鍍膜設(shè)備的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(包括真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備)都對(duì)環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空鍍膜設(shè)備對(duì)環(huán)境的要求，才能使該設(shè)備正常運(yùn)轉(zhuǎn)，加上正確的鍍膜工藝，方能生產(chǎn)出合格的鍍膜產(chǎn)品。真空對(duì)

• PVD涂層對(duì)工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對(duì)涂層的性能有決定性影響。要想有質(zhì)量良好的涂層，工件需經(jīng)研磨或拋光，并針對(duì)運(yùn)輸進(jìn)行防腐處理。一、研磨的表面不能出現(xiàn)淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過(guò)的表面、用磨刀石磨過(guò)的表面、拋光的表面或用磨盤磨過(guò)的表面必須沒(méi)有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無(wú)毛刺，以便它們不會(huì)在**次使用時(shí)斷裂。 五、在EDM（

• 多弧離子真空鍍膜技術(shù)特點(diǎn)

  離子鍍的原理：離子鍍是在真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者**結(jié)合起來(lái)， 不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力 強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點(diǎn)是我們可以通過(guò)產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體，其中離子之間