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?大氣等離子清洗機設備安裝靈便簡易,可與智能化生產流水線在線運用。利用等離子體內各種高能物質的活(化)影響,去除附著在物體表層的污垢。其基本原理:在氧等離子體中的氧原子自由基、刺激性氧分子、電子和紫外光線的相同影響下,油污分子結構后面被氧化變成水和CO2分子結構,并從物體表層去除。大氣直噴等離子清洗機廣泛應用于玻璃光學、手機制造、印刷、包裝等諸多行業。? ? &nbs
納米銅薄膜是一種新型功能材料具有表面效應、**效應等特性,其導電性能良好在化工、紡織、醫學和電子等廣泛應用。低溫等離子體處理技術是一種對環境友好的表面處理技術,可應用于不同材料的表面處理,以實現清潔、刻蝕或接枝等。? ? ? ? 紡織材料表面采用低溫等離子體技術處理工藝設計后以其為基質沉積納米銅薄膜,可作為理想的功能材料并提高紡織品的附加值。未經等離子體預處
冶金涂層方法用于各種工程產品中,以提高它們的抗蝕性,耐磨性,疲勞強度和表面硬度。涂覆的方法有二種,一種是在工件表面上附著一層物質;另一種是從工件表面向里形成一層不同物質的擴散層,該層具有可以測定的濃度梯度,而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如,目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴散層,用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學氣相沉
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優良的介質材料,它具有介電性能穩定,介質損耗小,耐潮性好,溫度系數好等優點,具有較其穩定的化學性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發出各種新型的薄膜沉積技術。近年來,常壓plasma等離子處理
公司名: 深圳子柒科技有限公司
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